三星发布最新先进工艺技术路线图 2nm工艺竞赛晋级

liukang20242个月前718吃瓜322

近来,三星在美国加州圣何塞举办的三星晶圆代工论坛(SFF)上表明,在曩昔一年中,三星代工的AI需求相关销售额增长了80%,估计到2028年,其AI芯片代工客户数量将比2023年添加4倍,代工销售额将比2023年添加9倍。三星还发布了其最新的工艺技能路线图,包含两个新的工艺节点—SF2Z和SF4U,而且将为其代工客户供给全面的“一站式”人工智能解决方案。

简洁的三星公布最新先进工艺技术路线图 2nm工艺竞争升级的插图

三星发布的最新先进制程工艺技能路线图

据了解,三星此次发布的最新2nm工艺节点SF2Z选用了优化的反面供电网络(BSPDN)技能,将电源轨置于晶圆反面,以下降供电电路对互联信号电路的搅扰。与第一代2nm节点SF2比较,SF2Z在进步功率、功用和面积的一起,还可以下降电压,然后进步HPC规划的功用,该技能估计将于2027年完结量产。此次发布的另一个工艺节点SF4U是一种4nm变体,经过结合光学缩小来供给PPA改善,方案于2025年完结量产。

三星还透露了其SF1.4(1.4纳米)的准备工作现在发展顺畅,有望在2027年达到功用和良率方针并完结量产。三星还将经过资料和结构立异,活跃刻画1.4纳米以下的未来工艺技能。

优雅的三星公布最新先进工艺技术路线图 2nm工艺竞争升级的视图

而三星的两位老对手此前也发布了其先进制程的路线图,台积电方案在2025年推出工艺节点N2(2nm工艺)。台积电表明,N2将是台积电首个运用全栅极(GAA)纳米片晶体管的出产节点,这将明显进步其功用、功耗和面积(PPA)特性。与N3E比较,在N3上出产的半导体可将功耗下降25%~30%,将功用进步10%~15%,并将晶体管密度进步15%。2026年,台积电将推出N2P(功用增强型2纳米级)和A16(具有反面功率传输功用的1.6纳米级),别离针对智能手机和高功用核算使用。

台积电的先进工艺技能路线图

英特尔早在2021年就提出了“四年五个节点”方案,即四年内完结Intel 7、Intel 4、Intel 3、Intel 20A、Intel 18A(可对应7nm~1.8nm工艺)五个节点。英特尔首席执行官帕特・基辛格表明,英特尔的Intel 20A(2纳米)和18A(1.8nm)将按期上市,是业界第一批选用PowerVia反面供电技能的芯片,经过优化供电进步功用和晶体管密度。英特尔在本年2月拓宽了制程技能路线图,新增了Intel 14A(1.4nm工艺)和数个专业节点的演化版别。三家在先进制程上的进展可以说是针锋相对。

三星公布最新先进工艺技术路线图 2nm工艺竞争升级的照片

三星还在会上强调了其GAA技能,方案在本年下半年量产其第二代3nm工艺(SF3),并在行将推出的2nm工艺上完结GAA。

在人工智能解决方案方面,三星将于2027年推出一个整合代工、内存和AVP事务等各个事务优势的人工智能渠道(AI Solution),具有高功用、低功耗和高带宽等特色,还可依据特定的人工智能需求进行定制。

作者丨许子皓
修改丨张心怡
美编丨马利亚
监制丨连晓东
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